TheMOKVDusul häzirki wagtda bu pudakda ýokary fazaly InGaN epilaýerleri, III-N materiallary we köp kwant guýy gurluşly ýarymgeçiriji filmler ýaly ýokary hilli ýeke kristal inçe filmleri ösdürmek üçin ulanylýan iň durnukly proseslerden biridir we bu ýerde uly ähmiýete eýe. ýarymgeçiriji we optoelektron enjamlaryny öndürmek.
TheSiC örtük MOCVD duýgurüçin kremniy karbid (SiC) bilen örtülen ýöriteleşdirilen wafli saklaýjydyrepitaksial metal organiki himiki buglaryň çökdürilmegi (MOCVD) prosesinde ösüş.
SiC örtügi ajaýyp himiki garşylyga we ýylylyk durnuklylygyna eýe bolup, epitaksial ösüş proseslerini talap etmekde ulanylýan MOCVD duýgurlary üçin iň amatly saýlama bolýar.
MOCVD prosesiniň esasy düzüm bölegi, öndürilen inçe filmleriň birmeňzeşligini we hilini üpjün etmek üçin esasy element bolan duýgurdyr.
Duýgurlyk näme? Duýgurlyk, inçe filmiň ýerleşdirilen substratyny goldamak we gyzdyrmak üçin MOCVD prosesinde ulanylýan ýöriteleşdirilen komponentdir. Elektromagnit energiýasyny siňdirmek, ony ýylylyga öwürmek we ýylylygy substratda deň paýlamak ýaly birnäçe wezipesi bar. Bu birmeňzeş ýyladyş, takyk galyňlygy we düzümi bolan birmeňzeş inçe filmleriň ösmegi üçin zerurdyr.
Duýgurlaryň görnüşleri:
1. Grafit duýgurlary: Grafit duýgurlary köplenç ýaly gorag gatlagy bilen örtülýärkremniy karbid (SiC)ýokary ýylylyk geçirijiligi we durnuklylygy bilen tanalýar. TheSiC örtükýokary temperaturada poslama we zaýalanmaga garşy gaty, goragly ýer berýär.
2. Silikon karbid (SiC) duýgurlary: Bu duýgurlar tutuşlygyna SiC-den ýasalýar we ajaýyp ýylylyk durnuklylygyna we aşaga garşylygy bar. SiC duýgurlary ýokary temperaturaly prosesler we poslaýjy gurşaw üçin aýratyn amatlydyr.
Duýgurlar MOCVD-de nähili işleýärler:
MOCVD prosesinde prekursorlar bölünip, substratda inçe film emele getirmek üçin reaksiýa kamerasyna girizilýär. Duýgurlyk substratyň deň derejede gyzdyrylmagyny üpjün etmekde möhüm rol oýnaýar, bu tutuş substratyň üstünde yzygiderli film häsiýetlerine ýetmek üçin möhümdir. Duýgurlygyň materialy we dizaýny, temperatura diapazony we himiki laýyklyk ýaly çöketlik prosesiniň aýratyn talaplaryny kanagatlandyrmak üçin seresaplylyk bilen saýlanýar.
Qualityokary hilli duýgurlary ulanmagyň artykmaçlyklary:
• Filmiň hili ýokarlandyryldy: Bitewi ýylylyk paýlanyşyny üpjün etmek bilen, ýarymgeçiriji enjamlaryň işlemegi üçin möhüm ähmiýete eýe bolan yzygiderli galyňlygy we düzümi bolan filmlere ýetmäge kömek edýär.
• Amalyň netijeliligini ýokarlandyrmak: qualityokary hilli duýgurlar kemçilikleriň ähtimallygyny azaltmak we ulanyp boljak filmleriň öndürijiligini ýokarlandyrmak arkaly MOCVD prosesiniň umumy netijeliligini ýokarlandyrýar.
• Ömri we ygtybarlylygy: SiC ýaly çydamly materiallardan ýasalan siňdirijiler uzak möhletli ygtybarlylygy üpjün edýär we tehniki hyzmat çykdajylaryny azaldýar.
Duýgurlyk MOCVD prosesinde aýrylmaz bir bölek bolup, inçe filmiň goýulmagyna hiline we netijeliligine gönüden-göni täsir edýär. Elýeterli ululyklar, MOCVD duýgurlary we bahalary barada has giňişleýin maglumat üçin biziň bilen habarlaşmakdan çekinmäň. In engineenerlerimiz size laýyk materiallar barada maslahat bermäge we ähli soraglaryňyza jogap bermäge şat bolarlar.
Telefon: + 86-13373889683
WhatsAPP: + 86-15957878134
Email: sales01@semi-cera.com
Iş wagty: Awgust-12-2024