Tantal Karbid näme?

Tantal karbidi (TaC)tantal we uglerodyň ikilik birleşmesi, TaC x himiki formulasy bilen, bu ýerde x adatça 0,4 bilen 1 arasynda üýtgeýär. Metall geçirijiligi bilen gaty gaty, döwük, çydamly keramiki materiallar. Olar goňur-çal tozanlar we adatça süzgüç bilen işlenýär.

tak örtük

Tantal karbidimöhüm metal keramiki materialdyr. Tantal karbidiniň örän möhüm ulanylyşy tantal karbid örtügidir.

 ýokary arassalyk poroşok

Tantal karbid örtüginiň önüm aýratynlyklary

Eriş nokady: Ereýän nokadytantal karbidiýaly beýikdir3880 ° C., ony ýokary temperatura şertlerinde durnuklaşdyrýar we eremegi ýa-da peselmegi aňsat däl.

 

Iş ýagdaýy:Umuman alanyňda, Tantal karbidiniň (TaC) kadaly iş ýagdaýy 2200 ° C. Örän ýokary ereýän nokady göz öňünde tutup, TaC gurluş bütewiligini ýitirmän şeýle ýokary temperatura garşy durmak üçin döredildi.

 

Gatylyk we köýnek garşylygy: Örän gaty gatylygy bar (Mohs gatylygy takmynan 9-10 töweregi) we könelmegine we çyzylmagyna garşy durup biler.

 

Himiki durnuklylyk: Kislotalaryň we aşgarlaryň köpüsinde himiki durnuklylygy bar we poslama we himiki reaksiýalara garşy durup biler.

 

Malylylyk geçirijiligi: Gowy ýylylyk geçirijiligi, ýylylygy ýygnamagyň materiallara täsirini azaldyp, ýylylygy netijeli ýaýratmaga we geçirmäge mümkinçilik berýär.

 

Ondarymgeçiriji pudagynda amaly ssenariýler we artykmaçlyklar

MOCVD enjamlary: MOCVD (himiki bug çöketligi) enjamlarynda,tantal karbid örtüklerireaksiýa kamerasyny we beýleki ýokary temperatura komponentlerini goramak, enjamlaryň goýumlar bilen eroziýasyny azaltmak we enjamyň hyzmat möhletini uzaltmak üçin ulanylýar.

Üstünlikleri: Enjamyň ýokary temperatura garşylygyny ýokarlandyrmak, tehniki hyzmatyň ýygylygyny we çykdajylaryny azaltmak we önümçiligiň netijeliligini ýokarlandyrmak.

 

 

Wafli gaýtadan işlemek: Wafli gaýtadan işlemek we geçiriş ulgamlarynda ulanylýan tantal karbid örtükleri enjamyň könelmegine we poslama garşylygyny ýokarlandyryp biler.

Üstünlikleri: könelmegi ýa-da poslamagy sebäpli önümiň hilini azaltmak we wafli gaýtadan işlemegiň durnuklylygyny we yzygiderliligini üpjün etmek.

 未 标题 -1

Ondarymgeçiriji proses gurallary: Ion implantatorlary we efirler ýaly ýarymgeçiriji proses gurallarynda tantal karbid örtükleri gurallaryň berkligini ýokarlandyryp biler.

Üstünlikleri: Gurallaryň hyzmat möhletini uzaltmak, iş wagty azaltmak we çalyşmak çykdajylaryny azaltmak we önümçiligiň netijeliligini ýokarlandyrmak.

 zdfrga

Temperatureokary temperaturaly ýerler: Temperatureokary temperaturaly şertlerde elektron böleklerde we enjamlarda tantal karbid örtükleri materiallary ýokary temperaturadan goramak üçin ulanylýar.

Üstünlikleri: aşa temperatura şertlerinde elektron bölekleriniň durnuklylygyny we ygtybarlylygyny üpjün ediň.

 

Geljekdäki ösüş tendensiýalary

Material gowulaşmak: Maddy ylymyň ösmegi bilen, formulasiýa we çöketlik tehnologiýasytantal karbid örtükleriöndürijiligini ýokarlandyrmak we çykdajylary azaltmak üçin gowulaşmagyny dowam etdirer. Mysal üçin has çydamly we arzan bahaly örtük materiallary işlenip bilner.

 

Depozit tehnologiýasy: Tantal karbid örtükleriniň hilini we öndürijiligini gowulandyrmak üçin kämilleşdirilen PVD we CVD tehnologiýalary ýaly has täsirli we takyk çöketlik tehnologiýalaryna eýe bolmak mümkin bolar.

 

Täze amaly ugurlar: Ulanylýan ýerlertantal karbid örtükleriýokary öndürijilikli materiallara bolan islegi kanagatlandyrmak üçin howa, energetika we awtoulag senagaty ýaly has ýokary tehnologiýaly we senagat pudaklaryna giňeler.


Iş wagty: Awgust-08-2024