850V ýokary güýçli GaN-on-Si Epi Wafer

Gysga düşündiriş:

850V ýokary güýçli GaN-on-Si Epi Wafer- Semicera-nyň 850V ýokary güýçli GaN-on-Si Epi Wafer bilen ýarymgeçiriji tehnologiýasynyň indiki neslini öwreniň, ýokary woltly programmalarda has ýokary öndürijilik we netijelilik üçin döredilen.


Önümiň jikme-jigi

Haryt bellikleri

Icarymbilen tanyşdyrýar850V ýokary güýçli GaN-on-Si Epi Wafer, ýarymgeçiriji innowasiýasynda öňe gidişlik. Bu ösen epi wafli, Gallium Nitride (GaN) -iň ýokary netijeliligini Silikonyň (Si) tygşytlylygy bilen birleşdirip, ýokary woltly programmalar üçin güýçli çözgüt döredýär.

Esasy aýratynlyklary:

Volokary woltly işlemek: 850V çenli goldaw bermek üçin döredilen bu GaN-on-Si Epi Wafer, has ýokary netijeliligi we öndürijiligi üpjün edip, elektrik elektronikasyny talap etmek üçin amatlydyr.

Güýçli dykyzlyk: Iň ýokary elektron hereketi we ýylylyk geçirijiligi bilen, GaN tehnologiýasy ykjam dizaýnlara we güýç dykyzlygyny ýokarlandyrmaga mümkinçilik berýär.

Çykdajyly çözgüt: Silikony substrat hökmünde ulanmak bilen, bu epi wafli hiline ýa-da öndürijiligine zyýan bermezden, adaty GaN wafli üçin tygşytly alternatiwa hödürleýär.

Giňişleýin aralyk: Ygtybarlylygy we berkligi üpjün edip, güýç öwrüjilerinde, RF güýçlendirijilerinde we beýleki ýokary güýçli elektron enjamlarynda ulanmak üçin ajaýyp.

“Semicera” bilen ýokary woltly tehnologiýanyň geljegini öwreniň850V ýokary güýçli GaN-on-Si Epi Wafer. Öňdebaryjy programmalar üçin niýetlenen bu önüm, elektron enjamlaryňyzyň iň ýokary netijelilik we ygtybarlylyk bilen işlemegini üpjün edýär. Indiki nesil ýarymgeçiriji zerurlyklary üçin “Semicera” -ny saýlaň.

Harytlar

Önümçilik

Gözleg

Dummy

Kristal parametrler

Politip

4H

Faceerüsti ugrukdyryş säwligi

<11-20> 4 ± 0,15 °

Elektrik parametrleri

Dopant

n görnüşli azot

Çydamlylyk

0.015-0.025ohm · sm

Mehaniki parametrler

Diametri

150.0 ± 0,2mm

Galyňlyk

350 ± 25 μm

Esasy tekiz ugry

[1-100] ± 5 °

Esasy tekiz uzynlyk

47.5 ± 1,5mm

Ikinji kwartira

Hiç

TTV

≤5 μm

≤10 μm

≤15 μm

LTV

≤3 μm (5mm * 5mm)

≤5 μm (5mm * 5mm)

≤10 μm (5mm * 5mm)

-15μm ~ 15μm

-35μm ~ 35μm

-45μm ~ 45μm

Warp

≤35 μm

≤45 μm

≤55 μm

Öň (Si-face) gödeklik (AFM)

Ra≤0.2nm (5μm * 5μm)

Gurluşy

Mikrop turbanyň dykyzlygy

<1 ea / cm2

<10 ea / cm2

<15 ea / cm2

Metal hapalar

≤5E10atoms / cm2

NA

BPD

001500 ea / cm2

0003000 ea / cm2

NA

TSD

≤500 ea / cm2

0001000 ea / cm2

NA

Öň hili

Öň tarapy

Si

Faceerüsti gutarmak

Si-ýüzli CMP

Bölejikler

≤60ea / wafli (ölçegi≥0.3μm)

NA

Dyrnaklar

≤5ea / mm. Jemi uzynlygy ≤Diameter

Jemi uzynlygy≤2 * Diametri

NA

Pyrtykal gabygy / çukur / tegmiller / çişmeler / çatryklar / hapalanma

Hiç

NA

Gyrasy çipler / görkezijiler / döwük / alty sany plastinka

Hiç

Polip görnüşleri

Hiç

Jemi meýdany≤20%

Jemi meýdany ≤30%

Öňki lazer belligi

Hiç

Yzky hil

Yzyna

C ýüzli CMP

Dyrnaklar

≤5ea / mm, Jemi uzynlygy≤2 * Diametri

NA

Yzky kemçilikler (gyrasy çipler / görkezijiler)

Hiç

Yzky gödeklik

Ra≤0.2nm (5μm * 5μm)

Yzky lazer belligi

1 mm (ýokarky gyradan)

Gyrasy

Gyrasy

Çamfer

Gaplamak

Gaplamak

Wakuum gaplamak bilen epi taýýar

Köp wafli kaseta gaplamasy

* Bellikler NA "NA" haýyş ýok, agzalmadyk zatlar SEMI-STD-e degişli bolup bilmez.

tech_1_2_size
SiC wafli

  • Öňki:
  • Indiki: