Atom gatlagynyň çökdürilmegi (ALD) himiki bug çökdürmek tehnologiýasy bolup, iki ýa-da ondan köp prekursor molekulalaryny gezekli-gezegine sanjym edip inçe filmler gatlagyny gatlak boýunça ösdürýär. ALD ýokary gözegçilik we birmeňzeşligiň artykmaçlyklaryna eýedir we ýarymgeçiriji enjamlarda, optoelektron enjamlarynda, energiýa saklaýjy enjamlarda we beýleki ugurlarda giňden ulanylyp bilner. ALD-iň esasy ýörelgeleri deslapky adsorbsiýany, ýerüsti reaksiýany we önümi aýyrmagy öz içine alýar we bu ädimleri bir aýlawda gaýtalamak arkaly köp gatlakly materiallar emele gelip biler. ALD ýokary gözegçilikli, birmeňzeş we gözenekli däl gurluşyň aýratynlyklaryna we artykmaçlyklaryna eýedir we dürli substrat materiallaryny we dürli materiallary ýerleşdirmek üçin ulanylyp bilner.
ALD-iň aşakdaky aýratynlyklary we artykmaçlyklary bar:
1. controlokary gözegçilik:ALD gatlak-gatlak ösüş prosesi bolansoň, materialyň her gatlagynyň galyňlygy we düzümi takyk dolandyrylyp bilner.
2. Bitewilik:ALD beýleki çöketlik tehnologiýalarynda bolup biläýjek deňsizliklerden gaça durup, ähli substratyň üstünde materiallary birmeňzeş goýup biler.
3. Gözenek däl gurluş:ALD ýeke atomlaryň ýa-da ýeke molekulalaryň birliklerinde saklanýandygy sebäpli, emele gelen film adatça dykyz, gözenekli gurluşa eýe.
4. Gowy gurşaw öndürijiligi:ALD nanopore massiwleri, ýokary gözenekli materiallar we ş.m. ýaly ýokary derejeli gatnaşygy gurluşlaryny netijeli örtüp biler.
5. Göwrümliligi:ALD metallar, ýarymgeçirijiler, aýna we ş.m. ýaly dürli substrat materiallar üçin ulanylyp bilner.
6. Köpdürlüligi:Dürli deslapky molekulalary saýlamak bilen, ALD prosesinde metal oksidleri, sulfidler, nitridler we başgalar ýaly dürli materiallar goýulyp bilner.
