Custöriteleşdirilen Tantal Karbid örtükli halka

Gysga düşündiriş:

“Semicera” tarapyndan ýöriteleşdirilen “Tantal karbid örtükli halka” epitaksi enjamlary üçin ýörite işlenip, 2300 ° C-e çenli temperaturada ýokary eşik garşylygy we durnuklylygy hödürleýär. “Semicera” -dan bu ýokary öndürijilikli komponent, ýarymgeçirijiniň önümçilik proseslerini talap etmek üçin amatlylygy we takyklygy üpjün edýär.


Önümiň jikme-jigi

Haryt bellikleri

“Semicera” dürli komponentler we göterijiler üçin ýöriteleşdirilen tantal karbid (TaC) örtüklerini üpjün edýär.“Semicera” öňdebaryjy örtük prosesi tantal karbid (TaC) örtüklerine ýokary arassalygy, ýokary temperatura durnuklylygyny we ýokary himiki çydamlylygy gazanmaga, SIC / GAN kristallarynyň we EPI gatlaklarynyň önüminiň hilini ýokarlandyrmaga mümkinçilik berýär (Grafit bilen örtülen TaC duýgur) we esasy reaktor komponentleriniň ömrüni uzaltmak. Tantal karbid TaC örtüginiň ulanylmagy, gyradaky meseläni çözmek we hrustal ösüşiň hilini ýokarlandyrmakdyr, Semicera bolsa tantal karbid örtük tehnologiýasyny (CVD) halkara ösen derejä ýetirip, üstünlik gazandy.

 

Custöriteleşdirilen tantal karbid bilen örtülen halkalar, müşderileriň aýratyn zerurlyklaryna we amaly talaplaryna esaslanyp, tantal karbid örtük tehnologiýasyna laýyklykda aýratyn dizaýn edilen we öndürilen halka önümleri.

Aşakda tantal karbid bilen örtülen halkalaryň umumy beýany bar:

1. Materiallary saýlamak: Müşderiniň isleglerine görä, önümiň hilini we öndürijiligini üpjün etmek üçin ýokary arassa tantal materiallary substrat hökmünde saýlanýar.
2. Ölçegi we görnüşi: Müşderi tarapyndan berlen talaplara ýa-da dizaýn çyzgylaryna görä, tantal karbid bilen örtülen halkanyň göwrümi, diametri, galyňlygy we görnüşi aýratyn amaly ssenariýalara we enjam talaplaryna uýgunlaşdyrylýar.
3.
4. Geýmäge garşylyk we poslama garşylyk: Örtük prosesini we parametrlerini optimizirlemek bilen, tantal karbid bilen örtülen halkanyň belli bir gurşawyň talaplaryny kanagatlandyrmak üçin ajaýyp aşaga garşylygy we poslama garşylygy barlygyny üpjün ediň.
5. Möhürleme öndürijiligi: Müşderiniň möhürleme talaplaryna laýyklykda, tantal karbid bilen örtülen halkanyň möhürleýiş gurluşy, möhürlemegiň netijeli işlemegi we gazyň ýa-da suwuklygyň syzmagynyň öňüni almak üçin işlenip düzülendir we öndürilýär.
6. Hil gözegçiligi: Hususylaşdyrma prosesinde önümleriň yzygiderliligini, ygtybarlylygyny we laýyklygyny üpjün etmek üçin berk hil gözegçiligi we synag geçirilýär.

 
微信图片 _20240227150045

bilen we TaC bilen

微信图片 _20240227150053

TaC ulanandan soň (sagda)

Mundan başga-da, Semicera'sTaC bilen örtülen önümlerbilen deňeşdirilende has uzak hyzmat ediş möhletini we has ýokary temperatura garşylygyny görkezýärSiC örtükleri.Laboratoriýa ölçegleri biziň muny görkezdiTaC örtükleriuzak wagtlap 2300 gradusa çenli temperaturada yzygiderli çykyş edip biler. Aşakda nusgalarymyzyň käbir mysallary:

 
0 (1)
Semicera Iş ýeri
Semicera iş ýeri 2
Enjam enjamy
“Semicera” ammar jaýy
CNN gaýtadan işlemek, himiki arassalamak, CVD örtük
Biziň hyzmatymyz

  • Öňki:
  • Indiki: