GaN epitaksi

Gysga düşündiriş:

GaN Epitaxy ýokary öndürijilikli ýarymgeçiriji enjamlary öndürmekde ajaýyp netijeliligi, ýylylyk durnuklylygyny we ygtybarlylygyny hödürleýär. “Semicera” -nyň “GaN Epitaxy” çözgütleri, her gatlakda ýokary hilli we yzygiderliligi üpjün edip, häzirki zaman programmalarynyň talaplaryna laýyk gelýär.


Önümiň jikme-jigi

Haryt bellikleri

Icarymiň ýokary derejesini buýsanç bilen görkezýärGaN epitaksiýarymgeçiriji pudagynyň hemişe ösýän zerurlyklaryny kanagatlandyrmak üçin döredilen hyzmatlar. Galiý nitridi (GaN) ajaýyp aýratynlyklary bilen tanalýan materialdyr we epitaksial ösüş proseslerimiz bu peýdalaryň enjamlaryňyzda doly durmuşa geçirilmegini üpjün edýär.

Performanceokary öndürijilikli GaN gatlaklary Icarymýokary hilli önümçilige ýöriteleşýärGaN epitaksideňsiz-taýsyz material arassalygyny we gurluş bitewiligini hödürleýän gatlaklar. Bu gatlaklar, ýokary öndürijilik we ygtybarlylyk zerur bolan elektrik elektronikasyndan optoelektronika çenli dürli programmalar üçin möhümdir. Takyk ösüş usullarymyz, her GaN gatlagynyň häzirki zaman enjamlary üçin zerur talaplara laýyk gelmegini üpjün edýär.

Netijelilik üçin amatlyTheGaN epitaksi“Semicera” tarapyndan üpjün edilen, elektron bölekleriňiziň netijeliligini ýokarlandyrmak üçin ýörite işlenip düzülendir. Pes kemçilikli, ýokary arassa GaN gatlaklaryny bermek bilen, enjamlaryň has ýokary ýygylyklarda we naprýa .eniýelerde işlemegini üpjün edýäris, güýç ýitirilýär. Bu optimizasiýa, ýokary netijelilik iň ýokary bolan ýokary elektron-hereketli tranzistorlar (HEMT) we ýagtylyk çykaryjy diodlar (LED) ýaly programmalar üçin möhümdir.

Köpugurly amaly mümkinçiligi Icarym'sGaN epitaksiköp ugurly, pudaklaryň we amalyýetleriň giň toplumyna hyzmat edýär. Güýç güýçlendirijilerini, RF komponentlerini ýa-da lazer diodlaryny ösdürýärsiňizmi, GaN epitaksial gatlaklarymyz ýokary öndürijilikli, ygtybarly enjamlar üçin zerur binýady üpjün edýär. Biziň işimiz, önümleriňiziň iň oňat netijelere ýetmegini üpjün edip, aýratyn talaplara laýyklaşdyrylyp bilner.

Hil üçin borçnamaHil özenidirIcarymçemeleşmesiGaN epitaksi. Ajaýyp birmeňzeşligi, pes kemçilik dykyzlygyny we ýokary maddy aýratynlyklaryny görkezýän GaN gatlaklaryny öndürmek üçin ösen epitaksial ösüş tehnologiýalaryny we berk hil gözegçilik çärelerini ulanýarys. Hiliň bu ygrarlylygy, enjamlaryňyzyň diňe bir önümçilik standartlaryna laýyk gelmegini üpjün etmezligini üpjün edýär.

Ösüşiň innowasion usullary Icarympudagynda innowasiýalaryň başynda durýarGaN epitaksi. Toparymyz ösen elektrik we ýylylyk aýratynlyklary bilen GaN gatlaklaryny ýetirip, ösüş prosesini gowulandyrmak üçin täze usullary we tehnologiýalary yzygiderli öwrenýär. Bu täzelikler, indiki nesilleriň isleglerini kanagatlandyryp bilýän has oňat öndürijilikli enjamlara terjime edilýär.

Taslamalaryňyz üçin ýöriteleşdirilen çözgütlerHer taslamanyň özboluşly talaplarynyň bardygyny bilmek,Icarymýöriteleşdirilen teklipleri hödürleýärGaN epitaksiçözgütleri. Specificörite doping profillerine, gatlagyň galyňlygyna ýa-da üstki bezeglerine mätäçligiňiz bolsun, takyk zerurlyklaryňyza laýyk gelýän prosesi taýýarlamak üçin siziň bilen ýakyndan işleşýäris. Biziň maksadymyz, enjamyňyzyň işleýşini we ygtybarlylygyny goldamak üçin takyk işlenip düzülen GaN gatlaklary bilen üpjün etmekdir.

Harytlar

Önümçilik

Gözleg

Dummy

Kristal parametrler

Politip

4H

Faceerüsti ugrukdyryş säwligi

<11-20> 4 ± 0,15 °

Elektrik parametrleri

Dopant

n görnüşli azot

Çydamlylyk

0.015-0.025ohm · sm

Mehaniki parametrler

Diametri

150.0 ± 0,2mm

Galyňlyk

350 ± 25 μm

Esasy tekiz ugry

[1-100] ± 5 °

Esasy tekiz uzynlyk

47.5 ± 1,5mm

Ikinji kwartira

Hiç

TTV

≤5 μm

≤10 μm

≤15 μm

LTV

≤3 μm (5mm * 5mm)

≤5 μm (5mm * 5mm)

≤10 μm (5mm * 5mm)

-15μm ~ 15μm

-35μm ~ 35μm

-45μm ~ 45μm

Warp

≤35 μm

≤45 μm

≤55 μm

Öň (Si-face) gödeklik (AFM)

Ra≤0.2nm (5μm * 5μm)

Gurluşy

Mikrop turbanyň dykyzlygy

<1 ea / cm2

<10 ea / cm2

<15 ea / cm2

Metal hapalar

≤5E10atoms / cm2

NA

BPD

001500 ea / cm2

0003000 ea / cm2

NA

TSD

≤500 ea / cm2

0001000 ea / cm2

NA

Öň hili

Öň tarapy

Si

Faceerüsti gutarmak

Si-ýüzli CMP

Bölejikler

≤60ea / wafli (ölçegi≥0.3μm)

NA

Dyrnaklar

≤5ea / mm. Jemi uzynlygy ≤Diameter

Jemi uzynlygy≤2 * Diametri

NA

Pyrtykal gabygy / çukur / tegmiller / çişmeler / çatryklar / hapalanma

Hiç

NA

Gyrasy çipler / görkezijiler / döwük / alty sany plastinka

Hiç

Polip görnüşleri

Hiç

Jemi meýdany≤20%

Jemi meýdany ≤30%

Öňki lazer belligi

Hiç

Yzky hil

Yzyna

C ýüzli CMP

Dyrnaklar

≤5ea / mm, Jemi uzynlygy≤2 * Diametri

NA

Yzky kemçilikler (gyrasy çipler / görkezijiler)

Hiç

Yzky gödeklik

Ra≤0.2nm (5μm * 5μm)

Yzky lazer belligi

1 mm (ýokarky gyradan)

Gyrasy

Gyrasy

Çamfer

Gaplamak

Gaplamak

Wakuum gaplamak bilen epi taýýar

Köp wafli kaseta gaplamasy

* Bellikler NA "NA" haýyş ýok, agzalmadyk zatlar SEMI-STD-e degişli bolup bilmez.

tech_1_2_size
SiC wafli

  • Öňki:
  • Indiki: