Si Epitaxy

Gysga düşündiriş:

Si Epitaxy- Semicera-nyň Si Epitaxy bilen enjamyň ýokary öndürijiligini gazanmak, ösen ýarymgeçiriji programmalary üçin takyk ösen kremniy gatlaklaryny hödürlemek.


Önümiň jikme-jigi

Haryt bellikleri

Icarymýokary hilli hödürleýärSi Epitaxyhäzirki ýarymgeçiriji pudagynyň takyk standartlaryna laýyk gelýän hyzmatlar. Epitaksial kremniniň gatlaklary elektron enjamlaryň işlemegi we ygtybarlylygy üçin möhümdir we Si Epitaxy çözgütlerimiz, komponentleriňiziň amatly işlemegini üpjün edýär.

Takyk ösen kremniniň gatlaklary Icarymperformanceokary öndürijilikli enjamlaryň esasynyň ulanylýan materiallaryň hiline baglydygyna düşünýär. BiziňkiSi Epitaxyajaýyp birmeňzeşlik we kristal bitewiligi bilen kremniniň gatlaklaryny öndürmek üçin proses berk gözegçilikde saklanýar. Bu gatlaklar, yzygiderlilik we ygtybarlylyk birinji orunda durýan mikroelektronikadan başlap, ösen güýç enjamlaryna çenli amaly programmalar üçin zerurdyr.

Enjamyň öndürijiligi üçin amatlyTheSi Epitaxy“Semicera” tarapyndan hödürlenýän hyzmatlar enjamlaryňyzyň elektrik aýratynlyklaryny ýokarlandyrmak üçin niýetlenendir. Pes kemçilikli dykyzlygy bolan ýokary arassa kremniy gatlaklaryny ösdürip, komponentleriňiziň daşaýjy hereketini gowulandyryp we elektrik garşylygyny minimuma eltip, iň oňat ýerine ýetirilmegini üpjün edýäris. Bu optimizasiýa häzirki zaman tehnologiýasy tarapyndan talap edilýän ýokary tizlikli we ýokary netijelilik aýratynlyklaryna ýetmek üçin möhümdir.

Goýmalaryň köpdürliligi Icarym'sSi EpitaxyCMOS tranzistorlaryny, kuwwatly MOSFET-leri we bipolý çatryk tranzistorlaryny öndürmek ýaly köp sanly amaly üçin amatly. Çeýe amallarymyz, ýokary ýygylykly programmalar üçin inçe gatlaklara ýa-da güýç enjamlary üçin has galyň gatlaklara mätäç bolsaňyz, taslamaňyzyň aýratyn talaplaryna esaslanyp, özleşdirmäge mümkinçilik berýär.

Iň ýokary material hiliSemicera-da edýän ähli işimiziň özeni hil. BiziňkiSi Epitaxyamal, her kremniniň gatlagynyň iň ýokary arassalyk we gurluş bitewiligine laýyk gelmegini üpjün etmek üçin iň häzirki zaman enjamlaryny we usullaryny ulanýar. Jikme-jiklige bu üns, enjamyň işleýşine täsir edip biljek has ygtybarly we uzak dowamly komponentlere sebäp bolup biljek kemçilikleriň ýüze çykmagyny azaldýar.

Innowasiýa borçnamasy Icarymýarymgeçiriji tehnologiýasynyň başynda durmagy maksat edinýär. BiziňkiSi Epitaxyhyzmatlar epitaksial ösüş usullarynda iň soňky üstünlikleri öz içine alýan bu ygrarlylygy görkezýär. Önümleriňiziň bazarda bäsdeşlige ukyply bolmagyny üpjün edip, pudagyň ösýän zerurlyklaryny kanagatlandyrýan kremniy gatlaklaryny üpjün etmek üçin amallarymyzy yzygiderli kämilleşdirýäris.

Zerurlyklaryňyz üçin aýratyn çözgütlerHer taslamanyň özboluşlydygyna düşünmek,Icarymýöriteleşdirilen teklipleri hödürleýärSi Epitaxyaýratyn zerurlyklaryňyza laýyk çözgütler. Aýratyn doping profilini, gatlagyň galyňlygyny ýa-da üstki bezeglerini talap etseňizem, toparymyz takyk kesgitlemeleriňize laýyk önüm öndürmek üçin siziň bilen ýakyndan işleşýär.

Harytlar

Önümçilik

Gözleg

Dummy

Kristal parametrler

Politip

4H

Faceerüsti ugrukdyryş säwligi

<11-20> 4 ± 0,15 °

Elektrik parametrleri

Dopant

n görnüşli azot

Çydamlylyk

0.015-0.025ohm · sm

Mehaniki parametrler

Diametri

150.0 ± 0,2mm

Galyňlyk

350 ± 25 μm

Esasy tekiz ugry

[1-100] ± 5 °

Esasy tekiz uzynlyk

47.5 ± 1,5mm

Ikinji kwartira

Hiç

TTV

≤5 μm

≤10 μm

≤15 μm

LTV

≤3 μm (5mm * 5mm)

≤5 μm (5mm * 5mm)

≤10 μm (5mm * 5mm)

-15μm ~ 15μm

-35μm ~ 35μm

-45μm ~ 45μm

Warp

≤35 μm

≤45 μm

≤55 μm

Öň (Si-face) gödeklik (AFM)

Ra≤0.2nm (5μm * 5μm)

Gurluşy

Mikrop turbanyň dykyzlygy

<1 ea / cm2

<10 ea / cm2

<15 ea / cm2

Metal hapalar

≤5E10atoms / cm2

NA

BPD

001500 ea / cm2

0003000 ea / cm2

NA

TSD

≤500 ea / cm2

0001000 ea / cm2

NA

Öň hili

Öň tarapy

Si

Faceerüsti gutarmak

Si-ýüzli CMP

Bölejikler

≤60ea / wafli (ölçegi≥0.3μm)

NA

Dyrnaklar

≤5ea / mm. Jemi uzynlygy ≤Diameter

Jemi uzynlygy≤2 * Diametri

NA

Pyrtykal gabygy / çukur / tegmiller / çişmeler / çatryklar / hapalanma

Hiç

NA

Gyrasy çipler / görkezijiler / döwük / alty sany plastinka

Hiç

Polip görnüşleri

Hiç

Jemi meýdany≤20%

Jemi meýdany ≤30%

Öňki lazer belligi

Hiç

Yzky hil

Yzyna

C ýüzli CMP

Dyrnaklar

≤5ea / mm, Jemi uzynlygy≤2 * Diametri

NA

Yzky kemçilikler (gyrasy çipler / görkezijiler)

Hiç

Yzky gödeklik

Ra≤0.2nm (5μm * 5μm)

Yzky lazer belligi

1 mm (ýokarky gyradan)

Gyrasy

Gyrasy

Çamfer

Gaplamak

Gaplamak

Wakuum gaplamak bilen epi taýýar

Köp wafli kaseta gaplamasy

* Bellikler NA "NA" haýyş ýok, agzalmadyk zatlar SEMI-STD-e degişli bolup bilmez.

tech_1_2_size
SiC wafli

  • Öňki:
  • Indiki: