“LED” senagatynda ICP çykarmak prosesleri üçin “SiC pin” gaplary

Gysga düşündiriş:

Silikon karbid, ýokary çykdajyly we ajaýyp material aýratynlyklary bolan keramikanyň täze görnüşidir.Strengthokary güýç we gatylyk, ýokary temperatura garşylyk, uly ýylylyk geçirijiligi we himiki poslama garşylyk ýaly aýratynlyklar sebäpli Silikon Karbid ähli himiki serişdelere çydap bilýär.Şonuň üçin SiC nebit çykarmakda, himiýada, tehnikada we howa giňişliginde giňden ulanylýar, hatda ýadro energiýasy we harby güýçleriň SIK-e aýratyn talaplary bar.

Örän ýokary hilli we amatly wagt bilen aýratyn ölçegleriňize görä dizaýn we öndürip bilýäris.


Önümiň jikme-jigi

Haryt bellikleri

Önümiň beýany

Kompaniýamyz, grafit, keramika we beýleki materiallaryň üstünde CVD usuly bilen SiC örtük hyzmatlaryny hödürleýär, uglerod we kremnini öz içine alýan ýörite gazlar ýokary arassalyk SiC molekulalaryny, örtülen materiallaryň üstünde goýlan molekulalary almak üçin ýokary temperaturada täsir eder, SIK gorag gatlagyny emele getirýär.

Esasy aýratynlyklary:

1. temperatureokary temperaturaly okislenme garşylygy:

oksidlenme garşylygy, temperatura 1600 C-den ýokary bolanda henizem gaty gowy.

2. purokary arassalygy: ýokary temperatura hlorlaşma şertinde himiki bug çökdürilmegi bilen öndürilýär.

3. Eroziýa garşylygy: ýokary gatylyk, ykjam ýer, inçe bölejikler.

4. Poslama garşylyk: kislota, aşgar, duz we organiki reagentler.

Silikon karbidden ýasalan disk (2)

CVD-SIC örtüginiň esasy aýratynlyklary

SiC-CVD häsiýetleri

Kristal gurluş

FCC β tapgyry

Dykyzlygy

g / sm ³

3.21

Gatylyk

Wikers gatylygy

2500

Galla ölçegi

μm

2 ~ 10

Himiki arassalyk

%

99.99995

Atylylyk kuwwaty

J · kg-1 · K-1

640

Sublimasiýa temperaturasy

2700

Felexural güýç

MPa (RT 4 bal)

415

Youngaş modul

Gpa (4pt egilmek, 1300 ℃)

430

Malylylyk giňelişi (CTE)

10-6K-1

4.5

Malylylyk geçirijiligi

(W / mK)

300

Semicera Iş ýeri
Semicera iş ýeri 2
Enjam enjamy
CNN gaýtadan işlemek, himiki arassalamak, CVD örtük
Biziň hyzmatymyz

  • Öňki:
  • Indiki: